Источник плазмы встроен в вакуумную камеру и генерирует плазму высокой плотности. Источник плазмы можно использовать для плазменного осаждения (ионного покрытия), и можно улучшить свойства пленки для оптических тонких пленок, защитных пленок и функциональных пленок. А также может использоваться для плазменной обработки, такой как очистка и модификация поверхности.ФункцииНизковольтная и сильноточная плазма позволяет ионизировать и возбуждать молекулы газа и испаряемые частицы.Возможно реактивное осаждение, особенно подходящее для ускорения окисления пленки.Плазма высокой плотности может генерироваться в массовом пространстве, поэтому возможно высокоскоростное осаждение на большую площадь.Возможна модернизация существующей вакуумной камеры.ЭффектУлучшение плотности пленки, показателя преломленияПроизводство экологически устойчивых пленокНизковолновой сдвигНизкое оптическое поглощение (способствует окислению пленки)Улучшение адгезии пленкиУлучшение шероховатости поверхностиКонтроль стресса пленкиТехнические характеристикиМаксимальная мощность плазмы: 6 кВт (160 В, 38 А)Рабочее давление: от 1×10-2 до 1×10-1 Па (атмосфера Ar, O2, N2)Газ на выходе (Ar): от 8 до 20 мл/мин.Охлаждающая вода: от 7 до 10 л/мин.Метод луча: выбирается из луча отражения и луча облучения
